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Sadiq, M: Shallow tempering of materials - Livres de poche

2010, ISBN: 9783838389455

This work evaluates the performance of a Mather type plasma focus device in connection with its use as a surface modification tool. It is shown that the device can be used for surface mod… Plus…

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Shallow tempering of materials - Livres de poche

2010, ISBN: 383838945X

[EAN: 9783838389455], Neubuch, [PU: LAP LAMBERT Academic Publishing], PHYSIK ASTRONOMIE PLASMA FOCUS SURFACE MODIFICATION RAMAN SPECTROSCOPY X-RAY DIFFRACTION HARDNESS, Dieser Artikel ist… Plus…

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2010

ISBN: 9783838389455

LAP LAMBERT Academic Publishing, Taschenbuch, 140 Seiten, Publiziert: 2010-07-26T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, 0.48 kg, Astronomie, Naturwissenschaften & Technik, Kategorien, Bücher, In… Plus…

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2010, ISBN: 9783838389455

LAP LAMBERT Academic Publishing, Taschenbuch, 140 Seiten, Publiziert: 2010-07-26T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, 0.48 kg, Astronomie, Naturwissenschaften & Technik, Kategorien, Bücher, In… Plus…

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Shallow tempering of materials Applications of pulsed plasma streams from a plasma focus device for surface modification of Al, Si and PTFE - nouveau livre

2010, ISBN: 383838945X

Kartoniert / Broschiert Physik, mit Schutzumschlag 11, [PU:LAP LAMBERT Academic Publishing]

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Détails sur le livre
Shallow tempering of materials: Applications of pulsed plasma streams from a plasma focus device for surface modification of Al, Si and PTFE
Auteur:
Titre:
ISBN:

9783838389455


This work evaluates the performance of a Mather type plasma focus device in connection with its use as a surface modification tool. It is shown that the device can be used for surface modification of different classes of solids (aluminium, silicon and PTFE). The surface hardening of aluminium is achieved through nitrogen ion implantation. The surface hardness of the ion implanted specimens is found to improve by 300 % by the formation of cubic aluminium nitride phase. Argon and nitrogen ion implantation are used to achieve amorphization of the crystalline silicon. Additionally, the device is employed to deposit thin films of aluminium nitride on silicon substrates. The films are observed to have a strong c-axis alignment but under compressive stress. The crystallinity of the PTFE is found to be enhanced under the action of nitrogen ion irradiation.

Informations détaillées sur le livre - Shallow tempering of materials: Applications of pulsed plasma streams from a plasma focus device for surface modification of Al, Si and PTFE


EAN (ISBN-13): 9783838389455
ISBN (ISBN-10): 383838945X
Version reliée
Livre de poche
Date de parution: 2010
Editeur: LAP LAMBERT Academic Publishing
140 Pages
Poids: 0,225 kg
Langue: eng/Englisch

Livre dans la base de données depuis 2009-11-15T18:24:07+01:00 (Zurich)
Page de détail modifiée en dernier sur 2023-12-11T13:53:12+01:00 (Zurich)
ISBN/EAN: 9783838389455

ISBN - Autres types d'écriture:
3-8383-8945-X, 978-3-8383-8945-5
Autres types d'écriture et termes associés:
Auteur du livre: sadiq
Titre du livre: plasma focus, ptfe

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